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  • GMD2000石墨烯水性涂料研磨分散機
    GMD2000石墨烯水性涂料研磨分散機

    石墨烯水性涂料研磨分散機線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。

    更新日期:2025-01-21型號:GMD2000
  • GMD2000氧化鋅固液研磨分散機
    GMD2000氧化鋅固液研磨分散機

    氧化鋅固液研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果

    更新日期:2025-01-21型號:GMD2000
  • GMD2000聚四氟乙烯粉研磨分散機
    GMD2000聚四氟乙烯粉研磨分散機

    聚四氟乙烯粉研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下,達到小的粒徑效果。

    更新日期:2025-01-21型號:GMD2000
  • GRS2000淀粉膠囊殼超高速三級分散機
    GRS2000淀粉膠囊殼超高速三級分散機

    淀粉膠囊殼超高速三級分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好

    更新日期:2025-01-21型號:GRS2000
  • GRS2000氧化鋅薄膜高剪切納米分散機
    GRS2000氧化鋅薄膜高剪切納米分散機

    氧化鋅薄膜高剪切納米分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

    更新日期:2025-01-21型號:GRS2000
  • GMD2000多空氧化鎂高剪切分散機
    GMD2000多空氧化鎂高剪切分散機

    多空氧化鎂高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以物料分散的均勻,沉析纖維成絲狀。

    更新日期:2025-01-21型號:GMD2000
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